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    <p>[0001] 本发明涉及显示制作技术领域，具体的，本发明涉及金属掩模版、显示面板和显示装置。</p>
    <h4>背景技术</h4>
    <p>0002] 现阶段的有源矩阵有机发光二极体(AMOLED)薄膜封装技术中，采用金属掩模版(Mask)对封装无机层进行图案化。参考，由于金属掩模版100在重力作用下会出现下垂现象，造成其中心区A和边缘区B与衬底200之间的间隙(Gap)值G不同，从而导致不同位置处的封装无机层的膜厚度不均匀，特别是参考，造成膜厚度在～的厚度渐变区(Shadow)C的不均匀性范围越长。</p>
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